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產(chǎn)品概述：

新一代變頻控制，試樣表面拋光更完美。數(shù)字化顯示運(yùn)行參數(shù)。

拋光速度可調(diào)。通過(guò)調(diào)整電壓高低和頻率，實(shí)現(xiàn)設(shè)備運(yùn)行的高效化。

無(wú)需操作者參與的全自動(dòng)拋光。運(yùn)行時(shí)間可設(shè)定，實(shí)現(xiàn)無(wú)人值守全自動(dòng)拋光，提高人員工作效率，降低企業(yè)成本。

功能特點(diǎn)：

● 輸入電壓：軟件設(shè)置110/220V，，全球范圍通用

● 高強(qiáng)度玻璃鋼外殼，防腐蝕，防沖撞

● 透明防塵罩可保證拋光盤(pán)的潔凈

● 可承載鑲嵌樣品或者較大的無(wú)需鑲嵌的樣品

● 不同規(guī)格樣品夾持器可選：1, 1.25, 1.5, 2英寸，，32mm，50mm可選，特殊規(guī)格可定制

主要特點(diǎn)：

    對(duì)于較難制備的材料以及需要充分去除應(yīng)力和整體不允許有任何破壞的精密元器件等樣品的表面拋光工作非常適合，從而充分的滿(mǎn)足材料樣品微觀(guān)分析（尤其是EBSD分析）的需要。

包括，，并不限于以下應(yīng)用：
1、較軟材料，如：鋁、銅、鎳等；

2、通用金屬材料；高溫合金；硬質(zhì)合金

3、高科技超合金；復(fù)合材料；

4、表面鍍層；

5、半導(dǎo)體；

6、玻璃；陶瓷；礦物質(zhì)；

7、塑料；

8、整體不允許做任何破損的精密元器件；

9、巖相超薄片樣品的制備：拋光后的樣品厚度可達(dá)至5~10微米

EBSD應(yīng)用說(shuō)明：

    對(duì)于多相（基體+其他相）的材料（不限于多相材料），如果通過(guò)觀(guān)察檢驗(yàn)，變形層還存在，那么，就需要利用振動(dòng)拋光機(jī)再進(jìn)行20~30分鐘的振動(dòng)拋光以充分的去除變形層，從而獲取符合高品質(zhì)的EBSD實(shí)驗(yàn)圖形要求的樣品制備結(jié)果。所有的金屬材料，即使是硬質(zhì)合金材料，皆可通過(guò)振動(dòng)拋光來(lái)充分的去除殘余變形，從而提高EBSD實(shí)驗(yàn)圖形的品質(zhì)。